142.
Teófilo R. F., Medeiros,W. R., Ferreira M. M. C., Kubota L. T., Kiralj R., "Estudo quantitativo da relação propriedade de bloqueio eletroquímico e estrutura fenólica, empregando QSPR" ["Study of quantitative relationship between electrodeposition and phenolic structure by means of QSPR"]. Poços de Caldas, MG, 30/05-02/06/2005: 28a Reunião Anual da Sociedade Brasileira de Química -  Química para o Desenvolvimento Sustentável e Inclusão Social [28th Annual Meeting of the Brazilian Chemical Society - Chemistry for Sustainable Development and Social Inclusion], Livro de Resumos Book of Abstracts], (2005) FQ-031. Poster FQ-031. Session: Physical Chemistry.


Português
______________________________________________________________________________________________________________
FQ-031
Qstudo quantitativo da relação propriedade de bloqueio eletroquímico e estrutura fenólica, empregando QSPR
Reinaldo F. Teófilo (PG)*, Walquiria R. Medeiros (PG), Márcia M. C. Ferreira (PQ), Lauro T. Kubota (PQ), Rudolf Kiralj (PQ)
Instituto de Química, Universidade Estadula de Campinas, Campinas 13083-862, SP, Brasil. teofilo@iqm.unicamp.br

Palavras Chave: QSPR, passivação eletroquímica, compostos fenólicos
A perda da atividade do eletrodo durante a oxidação fenólica interfere em processos eletroquímicos tais como tratamento de esgoto, síntese de quinonas e análise eletroquímica. Este trabalho apresenta um estudo da estrutura dos compostos fenólicos e a sua relação com o bloqueio eletroquímico. A diferença entre a altura da segunda corrente de pico anódica em relação à vigésima, obtida de experimentos voltamétricos, foi considerada a variável dependente para dez compostos fenólicos (catecol, resorcinol, hidroquinona, guaiacol, cloroguaiacol, p-aminofenol, paracetamol, dopamina, L-dopa e serotonina). Os descritores moleculares destes compostos, obtidos de cálculos ab initio (Hartree-Fock), relacionados a propriedades eletrônicas do grupo OH e anel aromático, mostraram-se capazes descrever a variável dependente ao nível de regressão de mínimos quadrados parciais (coeficientes de validação e de previsão > 0,85).
______________________________________________________________________________________________________________
 

28a Reunião Anual da Sociedade Brasileira de Química - SBQ


English
______________________________________________________________________________________________________________
FQ-031
Study of quantitative relationship between electrodeposition and phenolic structure by means of QSPR
Reinaldo F. Teófilo (PG)*, Walquiria R. Medeiros (PG), Márcia M. C. Ferreira (PQ), Lauro T. Kubota (PQ), Rudolf Kiralj (PQ)
Instituto de Química, Universidade Estadula de Campinas, Campinas 13083-862, SP, Brasil. teofilo@iqm.unicamp.br

Key Words: QSPR, electrochemical deposition, phenolic compounds
The loss of electrode activity during phenolic oxidation affects electrochemical processes such as waste treatment, quinone synthesis and electrochemical analysis. This work presents a study of phenolic compound structures in relation to electrochemical deposition. The difference between the second and the twentieth peaks of the anodic current, obtained from voltametric studied, was considered as dependent variable for ten phenolic compounds (catechol, resorcinol, hydroquinone, guaiacol, chloroguaiacol, p-aminophenol, paracetamol, dopamine, L-dopa and serotonine). The molecular descriptors for these compounds, obtained from ab initio (Hartree-Fock) calculations, were related with electronic properties of the group OH and the aromatic ring, and showed to be capable to describe the dependent variable at the level of partial least squares regression (coefficients of validation and prediction > 0.85).
_______________________________________________________________________________________________________________
 

28a Reunião Anual da Sociedade Brasileira de Química - SBQ